點腐蝕就是指在金屬材料表面大部分不腐蝕或者腐蝕輕微，而分散發(fā)生的局部腐蝕。一般點腐蝕的孔徑都小于1mm，深度都小于孔徑。不銹鋼在含有Cl的環(huán)境中容易出現點腐蝕的傾向。 

 金屬材料在某些環(huán)境介質中，經過一定的時間后，大部分表面不發(fā)生腐蝕或腐蝕很輕微，但在表面的微小區(qū)域內，出現蝕孔或麻點，且隨著時間的推移，蝕孔不斷向縱深方向發(fā)展，形成小孔狀腐蝕坑。這種現象稱為點腐蝕，亦稱為點蝕、小孔腐蝕、孔蝕。     

  點蝕幾何形態(tài)上構成了大陰極小陽極的結構，致使蝕孔的陽極溶解速度相當大，能很快導致腐蝕穿孔破壞。此外，點蝕能夠加劇其他類型的局部腐蝕，如晶間腐蝕、應力腐蝕開裂、腐蝕疲勞等。  點腐蝕的重要特征 點蝕多發(fā)生在表面生成氧化膜或鈍化膜的金屬材料上，或有陰極性鍍層的金屬上。 點蝕常常發(fā)生在有特殊離子的介質中，即有氧化劑和同時有活性陰離子存在的鈍化性溶液中。活性陰離子是發(fā)生點蝕的必要條件。       

  點腐蝕是一種外觀隱蔽而破壞性極大的局部腐蝕形式，點蝕發(fā)生在特定臨界電位以上。 

影響點蝕的因素：

  1. 鹵素離子及其它陰離子：在氯化物中，鐵、鎳、鋁、鈦、鋯以及它們的合金均可能產生點蝕。鋅、銅和鈦在含氯離子的溶液中，也可遭受鈍態(tài)的破壞。      

    很多含氧的非侵蝕性陰離子，例如NO3-、CrO42-、SO42-、OH-、CO32-等，添加到含Cl-的溶液中，都可起到點蝕緩蝕劑的作用。     而硫氰酸根、高氯酸根、次氯酸根等，可以促進點蝕。 

  2.  溶液中的陽離子和氣體物質：腐蝕介質中，金屬陽離子與侵蝕性鹵化物陰離子共存時，氧化性金屬離子，如Fe3+、Cu2+和Hg2+對點蝕起促進作用。        

  3. 溶液的pH值： 在溶液pH值低于9～10時，對二價金屬，如鐵、鎳、鎘、鋅和鈷等，其點蝕電位與pH幾乎無關，高于此pH值時，其點蝕電位變正，是由于OH-離子的鈍化作用所致。     

    對三價金屬，例如鋁，發(fā)生點蝕的條件及點蝕電位都不受溶液pH值的影響，這是由鋁離子水解的各步驟的緩沖作用所致。 

 4. 環(huán)境溫度：對鐵及其合金而言，點蝕電位通常隨溫度升高而降低。

 5.介質流速：溶液的流動對抑制點蝕起一定的有益作用。